Elveţia – Echipamente de laborator, optice şi de precizie (cu excepţia ochelarilor) – Integrierter UHV-Cluster für gepulste Laserdeposition (PLD) und Sputterdeposition von Dünnschichten

Bundesverwaltungsgericht Zuschlagskriterien Integrierter UHV-Cluster für gepulste Laserdeposition (PLD) und Sputterdeposition von Dünnschichten Das Laboratorium für Anorganische Chemie der ETH Zürich plant die Beschaffung eines integrierten UHV-Clusters für gepulste Laserdeposition (PLD) und Sputterdeposition von Heterostrukturen aus Oxid- und Metallschichten. Das System soll die Materialsynthese auf Oxidsubstraten mit einer Fläche von bis zu 10 x 10 mm2 ermöglichen. Es soll aus einer PLD-Kammer, einer Sputterkammer, einer zentralen UHV-Transferkammer und einer Schleusenkammer für den Austausch von Proben und PLD-Targets bestehen, ohne die Prozesskammern zu belüften. Alle Kammern müssen Basisdrücke unter 1 x 10-7 mbar aufweisen. Die PLD-Kammer muss mit einem KrF-Excimerlaser und in-situ Hochdruck-RHEED ausgestattet sein und für routinemässiges epitaktisches Oxidwachstum bei hohen Temperaturen um 1100 °C geeignet sein. Die Sputterkammer muss DC- und RF-Magnetronsputtern von Metall- und Oxidschichten ermöglichen, einschliesslich reaktivem Sputtern in Ar/O₂-Atmosphären, mit Substratheizung bis mindestens 700 °C unter Verwendung eines Probenträgersystems, das mit der PLD-Kammer kompatibel ist. Das System muss den Probentransfer zu einem externen UHV-Transferkoffer ermöglichen und UHV-kompatible Ports für die zukünftige Erweiterung des Clusters vorsehen. Für weitere Details siehe Spezifikationsdokument. ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services DE_SURFACE systems + technology GmbH & Co KG Begründung des Zuschlagentscheides Der erfolgreiche Anbieter erzielte die höchste Gesamtpunktzahl und erhielt daher den Zuschlag. Sein Angebot bot das vorteilhafteste Gesamtverhältnis aus technischer Qualität, Erfüllung der festgelegten Anforderungen, effizienter Raumnutzung und Wirtschaftlichkeit. Es verband eine hohe technische Bewertung mit einem wettbewerbsfähigen Anschaffungspreis und vorteilhaften Lebenszykluskosten. gemäss Ausschreibungsunterlagen Simap.ch Rechtsmittelbelehrung Gegen diese Verfügung kann gemäss Art. 56 Abs. 1 des Bundesgesetzes über das öffentliche Beschaffungswesen (BöB) innert 20 Tagen seit Eröffnung schriftlich Beschwerde beim Bundesverwaltungsgericht, Postfach, 9023 St. Gallen, erhoben werden. Die Beschwerde ist im Doppel einzureichen und hat die Begehren, deren Begründung mit Angabe der Beweismittel sowie die Unterschrift der beschwerdeführenden Person oder ihrer Vertretung zu enthalten. Eine Kopie der vorliegenden Verfügung und vorhandene Beweismittel sind beizulegen. Die Bestimmungen des Verwaltungsverfahrensgesetzes (VwVG) über den Fristenstillstand finden gemäss Art. 56 Abs. 2 BöB keine Anwendung. Die Zuschlagskriterien wurden den Anbietern mit der Ausschreibung zugestellt. small CHE [telefon eliminat] education selec-w https://www.simap.ch 0d73e605-25a3-425d-a5ff-eebd6494b2b1 8093 t-sme 8092 none 41836 t-oth-eea Hückelhoven Zürich supplies St. Gallen ORG-0003 CH055 t-esubm Rheinstr. 7 2026-09-01+02:00 ORG-0001 [email eliminat] ORG-0002 Binzmühlestrasse 130 Postfach [telefon eliminat] [telefon eliminat] EUR 1767435.00 02:26:03+02:00 BVGER CON-0000 Holzikofenweg 36 no-eu-funds quality 0 32014L0024 9ddf3cf0-d7a8-4afe-8303-47da0b89cb5a 3 3003 can-standard true 2000-01-01Z CH021 13dcfc3d-4f30-4783-ab35-fef4567ee680 ENG Bern no N/A body-pl Zürich ETH Hönggerberg t-no-eea 29 eforms-sdk-1.14 TEN-0000 RES-0000 LOT-0000 https://www.bvger.ch [email eliminat] 169/2026 ba805580-f2ea-4c15-b5c6-62f40c587c09 https://www.ethz.ch false [email eliminat] FRA DEU tenders CH040 TPA-[telefon eliminat]+02:00 2.3 DEA29 38[telefon eliminat] cc9a399c-7f30-49d5-b664-4443a6da4c10 ORG-0010 CH001 ted-esen open | Tribunal administrativ federal Integrated UHV Cluster for Pulsed Laser Deposition and Sputtering of Thin Films according to tender documents ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services The Laboratory of Inorganic Chemistry at ETH Zurich plans to procure an integrated UHV cluster for pulsed laser deposition and sputtering of heterostructures containing oxide and metallic layers. The system will enable materials synthesis on oxide substrates up to 10 x 10 mm2 in area. It shall comprise a PLD chamber, a sputtering chamber, a central UHV transfer/handling chamber, and a load-lock for sample and PLD target-carousel exchange without venting the process chambers. All chambers must have base pressures below 1 x 10-7 mbar. The PLD chamber must include a KrF excimer laser, in-situ high-pressure RHEED and be suitable for routine high-temperature epitaxial oxide growth around 1100 °C. The sputtering chamber must allow DC and RF magnetron sputtering of metallic and oxide layers, including reactive sputtering in Ar/O₂ atmospheres, with substrate heating up to at least 700 °C using a carrier concept compatible with PLD. The system must allow sample transfer to an external UHV vacuum suitcase, and retain UHV-compatible ports for future expansion of the cluster. Further details see specification document. EN_SURFACE systems + technology GmbH & Co KG Award criteria Instructions on legal remedies In accordance with Article 56 paragraph 1 of the Public Procurement Act (PPA), a written appeal against this decision can be lodged with the Federal Administrative Court, P.O. Box, 9023 St. Gallen, Switzerland, within 20 days of notification. Any appeal is to be submitted in duplicate and must include what is being sought, the grounds for appeal, evidence and the signature of the person lodging the appeal or his or her representative. A copy of this decision and available evidence must be included. The provisions of the Administrative Procedure Act (APA) on legal holidays do not apply in accordance with Article 56 paragraph 2 of the PPA. Simap.ch The award criteria were provided to the tenderers with the invitiaton to tender. Substantiation for award decision The successful tenderer achieved the highest total score and has therefore been awarded the contract. Its offer provided the most advantageous overall balance of technical quality, fulfilment of the specified requirements, space efficiency and economic value, combining a high technical score with a competitive acquisition price and favourable life-cycle costs. small CHE [telefon eliminat] education selec-w https://www.simap.ch 0d73e605-25a3-425d-a5ff-eebd6494b2b1 8093 t-sme 8092 none 41836 t-oth-eea Hückelhoven Zürich supplies St. Gallen ORG-0003 CH055 t-esubm Rheinstr. 7 2026-09-01+02:00 ORG-0001 [email eliminat] ORG-0002 Binzmühlestrasse 130 Postfach [telefon eliminat] [telefon eliminat] EUR 1767435.00 02:26:03+02:00 BVGER CON-0000 Holzikofenweg 36 no-eu-funds quality 0 32014L0024 9ddf3cf0-d7a8-4afe-8303-47da0b89cb5a 3 3003 can-standard true 2000-01-01Z CH021 13dcfc3d-4f30-4783-ab35-fef4567ee680 ENG Bern no N/A body-pl Zürich ETH Hönggerberg t-no-eea 29 eforms-sdk-1.14 TEN-0000 RES-0000 LOT-0000 https://www.bvger.ch [email eliminat] 169/2026 ba805580-f2ea-4c15-b5c6-62f40c587c09 https://www.ethz.ch false [email eliminat] FRA DEU tenders CH040 TPA-[telefon eliminat]+02:00 2.3 DEA29 38[telefon eliminat] cc9a399c-7f30-49d5-b664-4443a6da4c10 ORG-0010 CH001 ted-esen open | ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Tribunal administratif fédéral FR_SURFACE systems + technology GmbH & Co KG Simap.ch Justification de la décision d’adjudication Le soumissionnaire retenu a obtenu le score total le plus élevé et le marché lui a donc été adjugé. Son offre présentait l’équilibre global le plus avantageux entre qualité technique, satisfaction des exigences spécifiées, utilisation efficace de l’espace disponible et avantage économique. Elle combinait un score technique élevé avec un prix d’acquisition compétitif et des coûts du cycle de vie avantageux. Le Laboratoire de chimie inorganique de l’ETH Zurich prévoit d’acquérir un cluster UHV intégré pour le dépôt par ablation laser pulsée (PLD) et la pulvérisation cathodique de hétérostructures constituées de couches d’oxydes et de couches métalliques. Le système permettra la synthèse de matériaux sur des substrats oxydes d’une surface allant jusqu’à 10 x 10 mm2. Il devra comprendre une chambre PLD, une chambre de pulvérisation cathodique, une chambre UHV de transfert/manipulation, ainsi qu’un sas de chargement permettant l’échange des échantillons et des carrousels de cibles PLD sans remise à l’air des chambres de procédé. Toutes les chambres devront atteindre des pressions de base inférieures à 1 x 10-7 mbar. La chambre PLD devra être équipée d’un laser excimère KrF et d’un système RHEED haute pression in situ, et être adaptée à la croissance épitaxiale routinière d’oxydes à haute température autour de 1100 °C. La chambre de pulvérisation cathodique devra permettre la pulvérisation magnétron DC et RF de couches métalliques et d’oxydes, y compris la pulvérisation réactive sous atmosphère Ar/O₂, avec un chauffage du substrat jusqu’à au moins 700 °C au moyen d’un concept de porte-échantillon compatible avec la PLD. Le système devra permettre le transfert d’échantillons vers une valise de transfert UHV externe et disposer de ports compatibles UHV pour une future extension du cluster. Pour plus de détails, voir le cahier des charges. Les critères d’adjudication ont été envoyés aux soumissionnaires avec l’appel d’offres. Cluster UHV intégré pour le dépôt par laser pulsé et la pulvérisation cathodique de couches minces selon document d'appel d'offres Voies de droit Conformément à l'art. 56, al. 1, de la loi fédérale sur les marchés publics (LMP), la présente décision peut être attaquée, dans un délai de 20 jours à compter de sa notification, auprès du Tribunal administratif fédéral, case postale, 9023 Saint-Gall. Présenté en deux exemplaires, le mémoire de recours doit indiquer les conclusions, les motifs et les moyens de preuve et porter la signature de la partie recourante ou de son représentant ; y seront jointes une copie de la présente décision et les pièces invoquées comme moyens de preuve, lorsqu'elles sont disponibles. Conformément à l'art. 56, al. 2, LMP, les dispositions de la Loi fédérale sur la procédure administrative (PA) relatives à la suspension des délais ne s'appliquent pas. Critères d’adjudication small CHE [telefon eliminat] education selec-w https://www.simap.ch 0d73e605-25a3-425d-a5ff-eebd6494b2b1 8093 t-sme 8092 none 41836 t-oth-eea Hückelhoven Zürich supplies St. Gallen ORG-0003 CH055 t-esubm Rheinstr. 7 2026-09-01+02:00 ORG-0001 [email eliminat] ORG-0002 Binzmühlestrasse 130 Postfach [telefon eliminat] [telefon eliminat] EUR 1767435.00 02:26:03+02:00 BVGER CON-0000 Holzikofenweg 36 no-eu-funds quality 0 32014L0024 9ddf3cf0-d7a8-4afe-8303-47da0b89cb5a 3 3003 can-standard true 2000-01-01Z CH021 13dcfc3d-4f30-4783-ab35-fef4567ee680 ENG Bern no N/A body-pl Zürich ETH Hönggerberg t-no-eea 29 eforms-sdk-1.14 TEN-0000 RES-0000 LOT-0000 https://www.bvger.ch [email eliminat] 169/2026 ba805580-f2ea-4c15-b5c6-62f40c587c09 https://www.ethz.ch false [email eliminat] FRA DEU tenders CH040 TPA-[telefon eliminat]+02:00 2.3 DEA29 38[telefon eliminat] cc9a399c-7f30-49d5-b664-4443a6da4c10 ORG-0010 CH001 ted-esen open