Anunțul 639600-2026 pentru România – Dispozitive de pulverizare metalică – Echipamente pentru depuneri materiale conductoare si dielectrice este publicat de I.N.C.D. pentru Microtehnologie - I.M.T Bucuresti și este încadrat la codul CPV 42665000.
Sinteză HarveyAI
Harvey procesează documentele acestei licitații...
Punctajul se acorda astfel: a) Pentru cel mai scazut dintre preturi se acorda punctajul maxim alocat; b) Pentru celelalte preturi ofertate punctajul P(n) se calculeaza proportional, astfel: P(n) = (Pret minim ofertat / Pret n) x punctaj maxim alocat.
Contactele sunt disponibile utilizatorilor autentificați.Autentifică-te
Textul integral publicat de TEDextinde
- Se acordă 0 puncte pentru ofertele la care această distanță este egala cu 500 mm, conform cerinței minime din Caietul de sarcini. - Se acordă 4 puncte pentru ofertele la care această distanță este mai mare de 500 mm și mai mica sau egala cu 750 mm. - Se acordă 8 puncte (maxim) pentru ofertele la care această distanță este mai mare de 750 mm și mai mica sau egala cu 1000 mm. - Pentru valori mai mari de 1000 mm nu se acordă punctaj suplimentar.
2.1 Sistem planetar de manipulare a substratului
2.2 Echipamentul include mai multe ferestre de observare a depunerii, din poziții diferite
- Se acordă 0 puncte pentru valoarea minimă de 600 °C, stabilită prin Caietul de sarcini; - Se acordă 4 puncte pentru ofertele la care încălzirea substratului se poate realiza la o temperatura mai mare de 600 °C și mai mica sau egala cu 650 °C; - Se acordă 8 puncte pentru ofertele la care încălzirea substratului se poate realiza la o temperatura mai mare de 650 °C și mai mica sau egala cu 700 °C; - Se acordă 12 puncte pentru ofertele la care încălzirea substratului se poate realiza la o temperatura mai mare de 700 °C și mai mica sau egala cu 750 °C; - Se acordă 16 puncte pentru ofertele la care încălzirea substratului se poate realiza la o temperatura mai mare de 750 °C și mai mica sau egala cu 800 °C; - Se acordă 20 puncte (maxim) pentru ofertele la care încălzirea substratului se poate realiza la o temperatura mai mare de 800 °C; - Pentru valori care depășesc pragul ce asigură punctajul maxim nu se acordă punctaj suplimentar.
Punctajul se acorda astfel: a) Pentru cel mai scazut dintre preturi se acorda punctajul maxim alocat; b) Pentru celelalte preturi ofertate punctajul P(n) se calculeaza proportional, astfel: P(n) = (Pret minim ofertat / Pret n) x punctaj maxim alocat.
- Se acordă 0 puncte pentru o rezoluție mai bună sau egală cu 0,1 Angstrom și mai slabă decât 0,03 Angstrom (valoare mai mare de 0,03 Angstrom), nu se acordă punctaj (0 puncte); - Se acordă 6 (maxim) puncte pentru ofertele la care sistemul de monitorizare a grosimii stratului depus are o rezolutie de 0.03 Angstrom sau superior (adică valori mai mici); - Pentru valori mai mici de 0.03 Angstrom nu se acordă punctaj suplimentar.
Operator SEAP
“Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”) - procesare standard"
- Se acordă 0 puncte pentru existența unei singure ferestre de observare, conform cerinței minime din Caietul de sarcini; - Se acordă 6 puncte (maxim) pentru ofertele la care camera de depunere are exact 2 ferestre de vizualizare cu obturator, în vederea observării din poziții diferite; - Pentru mai mult de 2 ferestre de vizualizare cu obturator nu se acordă punctaj suplimentar.
2.4 Sistemul de monitorizare a grosimii stratului depus are o rezolutie superioara
Str.Erou Iancu Nicolae, nr.126A, Voluntari, Ilfov
2.5 Garantie extinsa
Punctajul corespunzător extinderii duratei de garantare se calculează astfel: - Pentru garanția minimă de 12 luni, stabilită prin Caietul de sarcini, nu se acordă punctaj (0 puncte); - Se acordă 2 puncte pentru o garanție extinsă la 24 luni (12 luni suplimentare față de minim); - Se acordă 4 puncte pentru o garanție extinsă la 36 luni (24 luni suplimentare față de minim); - Se acordă 6 puncte pentru o garanție extinsă la 48 luni (36 luni suplimentare față de minim); - Se acordă 8 puncte (punctaj maxim) pentru o garanție extinsă la cel putin 60 luni (48 luni suplimentare față de minim); - Se acordă 10 puncte (punctaj maxim) pentru o garanție extinsă la cel putin 72 luni (60 luni suplimentare față de minim); - Pentru o garanție extinsă la mai mult de 72 luni (mai mult de 60 luni suplimentare față de minim), nu se acordă punctaj suplimentar.
I.N.C.D. pentru Microtehnologie - I.M.T Bucuresti
LOTUL 1: “Echipament de depunere prin vaporizare cu fascicul de electroni (“e-beam deposition”) Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda vaporizarii cu fascicul de electroni, pentru aplicații în cercetare-dezvoltare și prototipare în domeniile microelectronicii și microsistemelor de diverse tipuri (electrice, optice, mecanice). LOTUL 2: “Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”) - procesare destinată dezvoltării de tehnologii noi” - Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltării și optimizarii unor procese tehnologice noi de depunere a straturilor subțiri de ordinul nanometrilor și micronilor care sa aiba puritate și calitate ridicată, conform cerințelor specifice aplicațiilor de cercetare și prototipare. LOTUL 3: “Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”) - procesare standard” - Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltarilor și optimizarilor standard, conform cerințelor specifice dispozitivelor microelectronice.
Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltarilor și optimizarilor standard, conform cerințelor specifice dispozitivelor microelectronice.
Punctajul corespunzător extinderii duratei de garantare se calculează astfel: - Pentru garanția minimă de 12 luni, stabilită prin Caietul de sarcini, nu se acordă punctaj (0 puncte); - Se acordă 2 puncte pentru o garanție extinsă de la 24 luni (12 luni suplimentare față de minim); - Se acordă 4 puncte pentru o garanție extinsă de la 36 luni (24 luni suplimentare față de minim); - Se acordă 6 puncte pentru o garanție extinsă de la 48 luni (36 luni suplimentare față de minim); - Se acordă 8 puncte pentru o garanție extinsă de la 60 luni (48 luni suplimentare față de minim); - Se acordă 10 puncte (punctaj maxim) pentru o garanție extinsă de la cel putin 72 luni (60 luni suplimentare față de minim); - Pentru o garanție extinsă la mai mult de 72 luni (mai mult de 60 luni suplimentare față de minim), nu se acordă punctaj suplimentar.
- Se acordă 0 puncte pentru valoarea minimă de 5 kW, stabilită prin Caietul de sarcini; - Se acordă 3 puncte pentru ofertele la care sursa de evaporare e-beam are putere mai mare de 5 kW și mai mică sau egală cu 7,5 kW. - Se acordă 6 puncte (maxim) pentru ofertele la care sursa de evaporare e-beam are putere mai mare de 7,5 kW și mai mică sau egală cu 10 kW. - Pentru valori care depășesc 10 kW nu se acordă punctaj suplimentar.
2.2 Posibilitatea de ridicare a temperaturii de încălzire a substratului peste 600 °C
“Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”)procesare destinată dezvoltării de tehnologii noi”
2.8 Garantie extinsa
- Se acorda 0 puncte pentru ofertele care NU permit ajustarea controlată a distanței dintre sursa magnetron și substrat; - Se acorda 20 de puncte pentru ofertele care permit ajustarea controlată a distanței dintre sursa magnetron și substrat.
- Se acordă 10 puncte (maxim) pentru ofertele la care sistemul de pompare (vidare) a camerei de proces poate atinge presiunea de 1 ×10⁻6 Torr sau superior (valori mai mici) într-un interval de timp de cel mult 60 de minute de la inițierea procesului de vidare.
Punctajul corespunzător extinderii duratei de garantare se calculează astfel: - Pentru garanția minimă de 12 luni, stabilită prin Caietul de sarcini, nu se acordă punctaj (0 puncte); - Se acordă 2 puncte pentru o garanție extinsă la 24 luni (12 luni suplimentare față de minim); - Se acordă 4 puncte pentru o garanție extinsă la 36 luni (24 luni suplimentare față de minim); - Se acordă 6 puncte pentru o garanție extinsă la 48 luni (36 luni suplimentare față de minim); - Se acordă 8 puncte (punctaj maxim) pentru o garanție extinsă la cel putin 60 luni (48 luni suplimentare față de minim); - Pentru o garanție extinsă la mai mult de 60 luni (mai mult de 48 luni suplimentare față de minim), nu se acordă punctaj suplimentar.
2.1 Ajustare controlată a distanței dintre sursa magnetron și substrat
2.3 Posibilitatea de ridicare a temperaturii de încălzire a substratului peste 250 °C
Consiliul National de Solutionare a Contestatiilor
Pretul ofertei
- Se acordă 0 puncte pentru existența unei singure ferestre de vizualizare cu obturator, conform cerinței minime din Caietul de sarcini; - Se acordă 10 puncte (maxim) pentru ofertele la care camera de depunere are exact 2 ferestre de vizualizare cu obturator, în vederea observării din poziții diferite. - Pentru mai mult de 2 ferestre de vizualizare cu obturator nu se acordă punctaj suplimentar.
Roxana Popescu
“Echipament de depunere prin vaporizare cu fascicul de electroni (“e-beam deposition”)
2.7 Functionalitate integrată de curățare in-situ a camerei de depunere (ex. plasma cleaning)
2.5 Sursa de evaporare e-beam oferă o putere mai mare de 5 kW
Se acordă 0 puncte pentru valoarea minimă de 250 °C, stabilită prin Caietul de sarcini; - Se acordă 10 puncte pentru ofertele la care încălzirea substratului se poate realiza la o temperatura mai mare de 250 °C și mai mica sau egala cu 400 °C. - Se acordă 15 puncte (maxim) pentru ofertele la care încălzirea substratului se poate realiza la o temperatura mai mare de 400 °C. - Pentru valori care depășesc pragul ce asigură punctajul maxim nu se acordă punctaj suplimentar.
Str.Erou Iancu Nicolae, nr.126A
APEL LASER
Echipamente pentru depuneri materiale conductoare si dielectrice
Serviciul juridic din cadrul INCD pentru Microtehnologie IMT Bucuresti
Marilena Oancea
- Se acordă 10 puncte (maxim) pentru ofertele care includ o functionalitate integrată echipamentului care să permită curățarea in-situ a camerei de depunere prin metode adecvate, cum ar fi curatare în plasmă, sau echivalent; - Pentru ofertele care nu includ această funcționalitate nu se acordă punctaj (0 puncte).
“Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”) - procesare destinată dezvoltării de tehnologii noi” - Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltării și optimizarii unor procese tehnologice noi de depunere a straturilor subțiri de ordinul nanometrilor și micronilor care sa aiba puritate și calitate ridicată, conform cerințelor specifice aplicațiilor de cercetare și prototipare.
2.4 Garantie extinsa
- Se acordă 0 puncte pentru ofertele care nu includ un sistem planetar de manipulare a substraturilor; - Se acordă 15 puncte pentru ofertele care includ un sistem planetar de manipulare a substraturilor, capabil să asigure mișcare dublă: fiecare substrat este montat pe un suport propriu care se rotește în jurul axei sale, în timp ce ansamblul suporturilor se rotește simultan în jurul unei axe centrale.
- Se acordă 0 puncte pentru ofertele la care încălzirea substratului se poate realiza la o temperatura de 250°C, stabilită prin Caietul de sarcini; - Se acordă 4 puncte pentru ofertele la care încălzirea substratului se poate realiza la o temperatura mai mare de 250 °C și mai mica sau egala cu 400 °C; - Se acordă 8 puncte (maxim) pentru ofertele la care încălzirea substratului se poate realiza la o temperatura mai mare de 400 °C; - Pentru valori care depășesc pragul ce asigură punctajul maxim nu se acordă punctaj suplimentar
Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda vaporizarii cu fascicul de electroni, pentru aplicații în cercetare-dezvoltare și prototipare în domeniile microelectronicii și microsistemelor de diverse tipuri (electrice, optice, mecanice).
- Se acordă 8 puncte (maxim) pentru ofertele la care sistemul de pompare (vidare) a camerei de proces poate atinge presiunea de 1 ×10⁻6 Torr sau superior (valori mai mici) într-un interval de timp de cel mult 60 de minute de la inițierea procesului de vidare.
2.1 Distanța dintre planul substratului și sursa de material este mai mare de 500 mm
2.4 Performanța sistemului de pompare (timp de atingere a vidului înalt)
2.3 Performanța sistemului de pompare (timp de atingere a vidului înalt)
2.6 Performanța sistemului de pompare (timp de atingere a vidului înalt)
01
education
t-sme
none
2026-09-17+02:00
020976
supplies
price
19[telefon eliminat]
RO1154
15
1920000
CON-0002
CON-0001
CON-0003
quality
2026-09-16+03:00
32014L0024
0
1
per-exa
2
18[telefon eliminat]
[telefon eliminat]
can-standard
888
ORG-9000
8
20
REF_OF: CAN1174461/LOT-0003/CIF: RO 15595373
23
[email eliminat]
body-pl
t-no-eea
29
TEN-0003
[telefon eliminat]
[email eliminat]
TEN-0002
TEN-0001
eforms-sdk-1.13
2000-01-01+02:00
RES-0002
RES-0004
http://www.cnsc.ro
https://www.adr.gov.ro/
RES-0003
REF_OF: CAN1174461/LOT-0002/CIF: RO 15595373
1897[telefon eliminat]
Voluntari
eu-funds
180/2026
14[telefon eliminat]+03:00
https://www.e-licitatie.ro
5650000
[email eliminat]
1700000
Strada Mihăilescu Vintilă, Nr. 15, Sector: 6
42665000
2.3
[telefon eliminat]db3bec-ac05-4b0b-b92b-6c188b8946bc
40
ted-esen
open
[email eliminat]
selec-w
Strada: Erou Iancu Nicolae, nr. 126A
2025/Anexa 27/28
t-oth-eea
ORG-0004
14:06:44.0000000+03:00
ORG-0005
t-esubm
Strada: Italiana, nr. 22, Sector: -, Judet: Bucuresti, Localitate: Bucuresti, Cod postal: -
060394
ORG-0001
ORG-0002
RO42283735
Bucuresti
https://ww.imt.ro
RO1154_3
RO 15595373
RON
030084
12:01:40.0000000+03:00
true
ROU
[email eliminat]
20329980
Strada Erou Iancu Nicolae, nr.126A
no
1749000
medium
[telefon eliminat]
LOT-0003
LOT-0002
[telefon eliminat]
https://www.apellaser.ro
1950000
TPA-0004
d861748b-34dd-4300-af0a-b51edf6633a1
[telefon eliminat]
false
LOT-[telefon eliminat]
tenders
5495000
REF_OF: CAN1174461/LOT-0004/CIF: RO 15595373
Str. Stavropoleos nr. 6, sector 3
RO321
RO322
https://www.imt.ro
Loturi TED
3
1
“Echipament de depunere prin vaporizare cu fascicul de electroni (“e-beam deposition”)
1.900.000,00 RON
Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda vaporizarii cu fascicul de electroni, pentru aplicații în cercetare-dezvoltare și prototipare în domeniile microelectronicii și microsistemelor de diverse tipuri (electrice, optice, mecanice).
42665000 — Dispozitive de pulverizare metalica
Durată: 23 MONTH
2
“Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”)procesare destinată dezvoltării de tehnologii noi”
1.800.000,00 RON
“Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”) - procesare destinată dezvoltării de tehnologii noi” - Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltării și optimizarii unor procese tehnologice noi de depunere a straturilor subțiri de ordinul nanometrilor și micronilor care sa aiba puritate și calitate ridicată, conform cerințelor specifice aplicațiilor de cercetare și prototipare.
42665000 — Dispozitive de pulverizare metalica
Durată: 23 MONTH
3
“Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”) - procesare standard"
1.950.000,00 RON
Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltarilor și optimizarilor standard, conform cerințelor specifice dispozitivelor microelectronice.
42665000 — Dispozitive de pulverizare metalica
Durată: 23 MONTH
Rezultate și atribuiri TED
LOT-00021.749.000,00 RON
Câștigător: APEL LASER · CUI RO 15595373
Contract 88614 sept. 2026
LOT-00041.849.000,00 RON
Câștigător: APEL LASER
Contract 88514 sept. 2026
LOT-00031.897.000,00 RON
Câștigător: APEL LASER
Contract 88814 sept. 2026
Detalii licitație
Descriere
LOTUL 1: “Echipament de depunere prin vaporizare cu fascicul de electroni (“e-beam deposition”) Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda vaporizarii cu fascicul de electroni, pentru aplicații în cercetare-dezvoltare și prototipare în domeniile microelectronicii și microsistemelor de diverse tipuri (electrice, optice, mecanice). LOTUL 2: “Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”) - procesare destinată dezvoltării de tehnologii noi” - Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltării și optimizarii unor procese tehnologice noi de depunere a straturilor subțiri de ordinul nanometrilor și micronilor care sa aiba puritate și calitate ridicată, conform cerințelor specifice aplicațiilor de cercetare și prototipare. LOTUL 3: “Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”) - procesare standard” - Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltarilor și optimizarilor standard, conform cerințelor specifice dispozitivelor microelectronice.
Căutări relevante pentru 639600-2026
Legături interne utile pentru CPV, autoritate și expresiile principale din denumirea procedurii.